クリーニング・マーキング・深彫・切断・穴あけ・アブレーション

クリーニング

レーザー照射によって、汚染物質、デブリ、不純物、錆等を材料の表面から除去するプロセスです。従来の方法(メディアブラストやドライアイスブラストなど)と比べ、はるかに環境負荷の少ない洗浄方法です。

金属

TRUMPF
レーザークリーニング装置100W, 200W

技術ページ

レーザークリーニングによる金型洗浄
塗膜剥離
リチウムイオン電池用箔のコーティング剤の除去

クリーニング

マーキング

マーキングはレーザー加工の中でも最も一般的なアプリケーションの1つです。ここでは加工対象の表面レベルでのマーキング加工(印字など)の例を紹介します。他の方法よりもはるかに優れた耐久性と、高い生産再現性を実現できます。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

Photonics Industries
DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー

ガラス

Photonics Industries
DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー

技術ページ

マーキング・アニーリング
撥水加工(レーザー表面処理)

エングレービング

レーザーがノミのように作用し、材料の選択領域を吹き飛ばすレーザーマーキングアプリケーションのひとつ。様々な形状・材料に適用することが可能です。レーザー彫刻は、深さが均一で周囲の摩耗のない高い品質を提供します。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー

Photonics Industries
DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー

ガラス

Photonics Industries
DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー

エングレービング

穴あけ

レーザー穴あけでは、特定の領域内でレーザービームを繰り返しパルス照射することにより、層ごとに材料を溶融・気化してホールを形成します。光ビームの強度と持続時間の管理によって、非常に高精度な加工を実現できます。

金属・セラミック

Litilit
Indylit コンパクト・10W~20W 空冷 フェムト秒レーザー

Fluence Technology
Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー

Oxford Lasers
フェムト秒レーザー加工装置
マイクロドリリング微細穴あけシステム

ガラス

Fluence Technology
Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー

穴あけ

アブレーション

レーザーアブレーションは、レーザーによる精密なレイヤ除去加工です。費用効果が高く、溶剤や化学薬品をまったく使用しない環境に優しい技術です。まさまざまな材料に対して、高精度な加工を1つのステップで行えます。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

ガラス

Fluence Technology
Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー

技術ページ

ダイヤモンド材への微細加工
半導体/LED製造
ガラスおよび透明材料の微細加工 

アブレーション