レーザー照射によって、汚染物質、デブリ、不純物、錆等を材料の表面から除去するプロセスです。従来の方法(メディアブラストやドライアイスブラストなど)と比べ、はるかに環境負荷の少ない洗浄方法です。
TRUMPF
▸レーザークリーニング装置100W, 200W
NUBURU
▸BL-125 125Wブルーレーザー
▸BL-250 250Wブルーレーザー
マーキングはレーザー加工の中でも最も一般的なアプリケーションの1つです。ここでは加工対象の表面レベルでのマーキング加工(印字など)の例を紹介します。他の方法よりもはるかに優れた耐久性と、高い生産再現性を実現できます。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー
PHOTON ENERGY
▸CEPHEUS ピコ秒レーザー
▸CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
▸CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION
レーザーがノミのように作用し、材料の選択領域を吹き飛ばすレーザーマーキングアプリケーションのひとつ。様々な形状・材料に適用することが可能です。レーザー彫刻は、深さが均一で周囲の摩耗のない高い品質を提供します。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
PHOTON ENERGY
▸CEPHEUS ピコ秒レーザー
▸CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
▸CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION
レーザーは、微細材料から金属板などの厚い材料まで、また多様な材料の高品質な切断に使用できます。非接触プロセスなので、安全性に優れ、可動部品の摩耗や接触による破損のリスクを回避できます。
TRUMPF
▸TruPulse nano S type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruFiber P compact CWファイバーレーザー
▸リチウムイオン電池用箔の切断
▸セラミックの切断
▸1mm厚 真鍮板の切断
▸1mm厚 銀板の切断
▸アルミホイルの切断
▸銅板の切断
▸シリコンの切断
▸シルバープレートのレーザー切断
▸タングステン材の切断
▸ステンレス鋼の精密切断加工
▸カプトン材の切断
▸CFRP材の微細加工
▸錫材の切断/深彫/マーキング
▸ステントの微細造形
レーザー穴あけでは、特定の領域内でレーザービームを繰り返しパルス照射することにより、層ごとに材料を溶融・気化してホールを形成します。光ビームの強度と持続時間の管理によって、非常に高精度な加工を実現できます。
Litilit
▸Indylit コンパクト・10W~20W 空冷 フェムト秒レーザー
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
PHOTON ENERGY
▸CEPHEUS ピコ秒レーザー
▸CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
▸CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION
Oxford Lasers
▸フェムト秒レーザー加工装置
▸マイクロドリリング微細穴あけシステム
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
PHOTON ENERGY
▸CEPHEUS ピコ秒レーザー
▸CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
▸CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION
レーザーアブレーションは、レーザーによる精密なレイヤ除去加工です。費用効果が高く、溶剤や化学薬品をまったく使用しない環境に優しい技術です。まさまざまな材料に対して、高精度な加工を1つのステップで行えます。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー