CW

CW発振とは、Continuous wave(連結波)を意味し、レーザーの出力が時間で変化せず、一定の値のまま出力されるタイプのレーザーのことです。

ファイバーレーザー

金属切断
▸TruFiber P Compact CWファイバーレーザー

金属溶接
▸ TruFiber P Compact CWファイバーレーザー

パルス発振

光出力がある一定の継続時間を持つパルスから構成されており、さらにそのパルスがある繰り返し周波数で繰り返されるレーザーを指します。

ナノ秒

マーキング
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

クリーニング
▸レーザークリーニング装置 100W, 200W

金属深彫
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

金属切断
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

金属表面粗化
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー

FPDリペア
▸DC Nd:YLF 351 nm / 527nm 高パルスエネルギー 空冷式ナノ秒レーザー
▸DM Nd:YLF351 nm UVマルチモード ナノ秒パルスレーザー

薄膜パターニング・半導体検査

▸DP Series 高パルスエネルギー ナノ秒レーザー

半導体関連部品加工
▸DX DUV Series 第4高調波ナノ秒レーザー

レーザー加工一般
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー

超短パルス

ガラスマーキング
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒レーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒レーザー

ガラス切断

▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano S type パルスファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒レーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒レーザー

ナノ周期構造

▸Indylit コンパクト10W～20W・空冷 フェムト秒レーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒レーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒レーザー

ガラス・セラミック等切断、半導体関連部品微細加工

▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー

レーザー加工一般

▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー