クリーニング・マーキング・深彫・切断・穴あけ・アブレーション

クリーニング

レーザー照射によって、汚染物質、デブリ、不純物、錆等を材料の表面から除去するプロセスです。従来の方法(メディアブラストやドライアイスブラストなど)と比べ、はるかに環境負荷の少ない洗浄方法です。

金属

TRUMPF
レーザークリーニング装置100W, 200W

樹脂

NUBURU
BL-125 125Wブルーレーザー
BL-250 250Wブルーレーザー

技術ページ

レーザークリーニングによる金型洗浄
塗膜剥離
リチウムイオン電池用箔のコーティング剤の除去

クリーニング

マーキング

マーキングはレーザー加工の中でも最も一般的なアプリケーションの1つです。ここでは加工対象の表面レベルでのマーキング加工(印字など)の例を紹介します。他の方法よりもはるかに優れた耐久性と、高い生産再現性を実現できます。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

樹脂 ガラス

PHOTON ENERGY
CEPHEUS ピコ秒レーザー
CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION

技術ページ

マーキング・アニーリング
撥水加工(レーザー表面処理)

深彫

レーザーがノミのように作用し、材料の選択領域を吹き飛ばすレーザーマーキングアプリケーションのひとつ。様々な形状・材料に適用することが可能です。レーザー彫刻は、深さが均一で周囲の摩耗のない高い品質を提供します。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー

樹脂 ガラス

PHOTON ENERGY
CEPHEUS ピコ秒レーザー
CEPHEUS OEM対応 レーザーマーキングシステム
CEPHEUS ピコ秒レーザーマーキング装置/WORKSTATION

深彫

切断

レーザーは、微細材料から金属板などの厚い材料まで、また多様な材料の高品質な切断に使用できます。非接触プロセスなので、安全性に優れ、可動部品の摩耗や接触による破損のリスクを回避できます。

金属・セラミック

TRUMPF
TruPulse nano S type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
TruFiber P compact CWファイバーレーザー

技術ページ

リチウムイオン電池用箔の切断
セラミックの切断
1mm厚 真鍮板の切断
1mm厚 銀板の切断
アルミホイルの切断
銅板の切断
シリコンの切断
シルバープレートのレーザー切断
タングステン材の切断
ステンレス鋼の精密切断加工
カプトン材の切断
CFRP材の微細加工
錫材の切断/深彫/マーキング
ステントの微細造形

切断

アブレーション

レーザーアブレーションは、レーザーによる精密なレイヤ除去加工です。費用効果が高く、溶剤や化学薬品をまったく使用しない環境に優しい技術です。まさまざまな材料に対して、高精度な加工を1つのステップで行えます。

金属

TRUMPF
TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー

ガラス

Fluence Technology
Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー

技術ページ

ダイヤモンド材への微細加工
半導体/LED製造
ガラスおよび透明材料の微細加工 

アブレーション