レーザー照射によって、汚染物質、デブリ、不純物、錆等を材料の表面から除去するプロセスです。従来の方法(メディアブラストやドライアイスブラストなど)と比べ、はるかに環境負荷の少ない洗浄方法です。
TRUMPF
▸レーザークリーニング装置100W, 200W
マーキングはレーザー加工の中でも最も一般的なアプリケーションの1つです。ここでは加工対象の表面レベルでのマーキング加工(印字など)の例を紹介します。他の方法よりもはるかに優れた耐久性と、高い生産再現性を実現できます。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano L type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
レーザーがノミのように作用し、材料の選択領域を吹き飛ばすレーザーマーキングアプリケーションのひとつ。様々な形状・材料に適用することが可能です。レーザー彫刻は、深さが均一で周囲の摩耗のない高い品質を提供します。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
レーザーは、微細材料から金属板などの厚い材料まで、また多様な材料の高品質な切断に使用できます。非接触プロセスなので、安全性に優れ、可動部品の摩耗や接触による破損のリスクを回避できます。
TRUMPF
▸TruPulse nano S type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruFiber P compact CWファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸リチウムイオン電池用箔の切断
▸セラミックの切断
▸1mm厚 真鍮板の切断
▸1mm厚 銀板の切断
▸アルミホイルの切断
▸銅板の切断
▸シリコンの切断
▸シルバープレートのレーザー切断
▸タングステン材の切断
▸ステンレス鋼の精密切断加工
▸カプトン材の切断
▸CFRP材の微細加工
▸錫材の切断/深彫/マーキング
▸ステントの微細造形
レーザー穴あけでは、特定の領域内でレーザービームを繰り返しパルス照射することにより、層ごとに材料を溶融・気化してホールを形成します。光ビームの強度と持続時間の管理によって、非常に高精度な加工を実現できます。
Litilit
▸Indylit コンパクト・10W~20W 空冷 フェムト秒レーザー
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Oxford Lasers
▸フェムト秒レーザー加工装置
▸マイクロドリリング微細穴あけシステム
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
レーザーアブレーションは、レーザーによる精密なレイヤ除去加工です。費用効果が高く、溶剤や化学薬品をまったく使用しない環境に優しい技術です。まさまざまな材料に対して、高精度な加工を1つのステップで行えます。
TRUMPF
▸TruPulse nano Z type パルスファイバーレーザー
▸TruPulse nano H type パルスファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Fluence Technology
▸Jasper Micro コンパクトフェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper Flex 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
▸Jasper XO 高出力フェムト秒ファイバーレーザー
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造工程で発生した微細欠陥部のみを精密除去・修復するプロセスです。レーザーを用いることで、非接触かつ高精度、熱影響を最小化し、歩留まり向上に貢献します。
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DC Nd:YLF 351 nm / 527nm 高パルスエネルギー 空冷式ナノ秒レーザー
▸DM Nd:YLF351 nm UVマルチモード ナノ秒パルスレーザー
レーザーで基板表面に微細な切り溝(スクライブライン)を形成するプロセスです。非接触で高精度なため割れや欠けを抑え、薄型ガラスや脆性材料の分割工程で高い歩留まりと加工品質を実現します。
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
レーザーで光硬化樹脂を逐次硬化させ、立体形状を造形する3Dプリンティング技術です。微細形状の再現性が高く、滑らかな表面品質を実現できるため、精密試作や治具製作に適しています。
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
レーザーで材料表面に微細な線幅や形状を直接形成する加工技術です。非接触で高精度なため、フォトマスク不要で迅速なデザイン変更が可能となり、エレクトロニクスや薄膜加工で高い再現性と生産効率を実現します。
Photonics Industries
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DP Series 高パルスエネルギー ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
レーザーで基板や半導体チップを高精度に切断・分割するプロセスです。非接触で加工応力が少なく、微細ピッチや薄型基板にも対応可能。クラックや欠けを抑え、高い歩留まりと加工品質を実現します。
Photonics Industries
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
レーザーの高エネルギーを極小領域に集光し、微細な穴あけ・切断・溝加工・表面改質を行うプロセスです。非接触で高精度、熱影響が小さく、電子部品・光学部品などの精密加工に最適です。
Photonics Industries
▸DXG Air-Cooled DUV 266nm DUV Nd:YAG 空冷ナノ秒レーザー
▸RX Series 中出力 ピコ秒レーザー
▸RXGL Series 1064 nm/532 nm 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
▸DX Short Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー
▸DX Air-Cooled 355nm / 532nm 空冷式ナノ秒レーザー
▸DX Long Pulse 355nm / 532nm 高出力ナノ秒レーザー