サプライヤー：TRUMPF
レーザークリーニング装置の概要と特長
TruPulse nano 100Wモデル,200Wモデルをレーザークリーニングシステムに搭載。金型洗浄、ペイント剥離、コーティング剤除去、様々な用途で使用されています。簡易型のレーザークリーニング装置。高信頼かつ頑強なパルスファイバーレーザーを使用した幅広いパルス周波数と高いピークパワーにより、高精度かつ効率的なレーザーラベリングやマーキングが可能で、工業用レーザークリーニングにも最適です。
塗料の除去、前処理、油・酸化物除去、金型・工具の洗浄で使用いただけます。非接触で基板材料を損傷を与えずクリーニングが可能です。穴あけ、彫刻、マーキングなど様々な用途にも適用可能で、これらの作業とクリーニングプロセスをシームレスに組込みが可能です。
レーザークリーニングは、材料表面からコンタミ、デブリ、不純物を除去する環境負荷の少ない低コストな技術で、世界中の様々な分野で使用されています。
産業用途では、高繰返し周波数とピークパワーを備えた短パルスレーザーが一般的に利用され、非接触で非破壊のプロセスは洗浄に不可欠な汚染リスクを低減し、溶媒や化学薬品を使用しないため安全で、除去すべき材料のみを取り除くため廃棄物も抑えることができます。
ミクロレベルで効果的なクリーニングが可能で、小型部品・コンポーネントへの使用が増加しています。プロセスにおける速度も高く、主に表面のレイヤを除去するプロセスと完全な表面の除去プロセスの2つが一般的になっています。
仕様
| モデル | TruPulse 2010 nano | TruPulse 5020 nano |
|---|---|---|
| 平均最大出力 | 100 W | 200 W |
| 波長 | 1059 – 1065 nm | 1061 – 1067 nm |
| ビーム品質（M2） | 1.0-1.6 | 4-6 |
| 最大パルスピーク出力 | 14 kW | 56 kW |
| 最大パルスエネルギー | 1.3 mJ | 5.1 mJ |
| 繰り返し周波数 | 80 -3570 kHz | 40 -560 kHz |
| 寸法 | 377 mm x 249 mm x 115 mm | 473 mm x 417 mm x 133 mm |
| 周辺温度 | 5 -40 ℃ | 5 -40 ℃ |
| 関連製品 | ||
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| TruPulse Nano | CEPUS OEM ピコ秒レーザー | CEPUS ピコ秒レーザー |
| 関連技術情報 | ||
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| 金型洗浄・クリーニング | 塗装剥離・クリーニング | リチウムイオン電池用箔の コーティング剤除去 |
