TruPulse nano パルスレーザーは、0.38mmのアルミナに毎秒5つの穴を開けることが可能です。
上の写真は、直径75〜80µのアウトプット側を示しています。インプット側の直径は100µ未満です。 これらの穴は、穴の直径と品質を制御するためにビームウォブリング技術を使用して作成されています。

 

TruPulse nano シングルモードSタイプは、15〜20µ範囲のスポットサイズでタスクを実行できるため、このような穴あけに最適なツールです。高いビーム品質によりプロセスに優れた被写界深度を取得し、より大きなマーキングフィールド、またはより小さなスキャンヘッドの使用で加工を完了することができます。

 

半径0.08mmの円形パスに半径40µで1000Hzのウォブルを適用し、200ms未満で40回繰り返しました。30W Sタイプレーザーは、45kHzで0.65mJを実現します。 穴を0.5mmオフセットし、次に示す0.25 mm間隔で穴を埋めるために戻ることにより、過度の加熱を減らしました。20µの出力で、材料により速く小さな穴を作成できます。

 

セラミック/アルミナの穴あけ
TruPulse nanoを使用して、0.38mm厚のアルミナに毎秒5箇所の穴あけが可能です。写真は穴の下側のもので、75-80umの穴径です。また、レーザーの入射側の穴径は100um以下です。

 

これらの穴は、穴径や品質を制御するためにビームウォブリング技術を使って開けられました。弊社のTruPulse nanoの”S”タイプはシングルモードレーザーで、15-20umまでスポット径を絞ることができるため、このような穴あけ用途に最適です。ビーム品質が良いため、こういった穴あけを広範囲でできたり、スキャナも小さくすることができる等、幅広い光学設計が可能です。半径40umの円を1000Hzでウォーブルさせることで、直径0.08mmの穴を開けました。これを40回繰り返し、要した時間は200msでした。使用した30WのSタイプレーザーは45kHzで0.65mJを発振することができます。