メーカー：PHOTON ENERGY
CEPHEUSMarkは、レーザー光源としてのCEPHEUSシリーズとレーザー加工装置としてのWorkstationシリーズの中間的な役割を担う、強力でかつコンパクトで堅牢な組込み向けレーザーマーキングシステムです。OEM用途でご使用いただけます。本 製品は、レーザー光源としてのCEPHEUSシリーズに専用ガルバノスキャナと光学系（オプティクス）、そして専用ソフトウェアで構成されています。完全空冷式でかつ非常にコンパクトなデザインとなっております。そのため、マーキングキャビネットに簡単に組み込むこともや、生産ラインに直接組み込むことも可能です。加工面においては、15 ピコ秒未満といった超短パルスにより、パルスあたりの材料のアブレーションを細かく制御することにより非熱加工を実現します。フィルム等、熱影響にセンシティブな材料への繊細でかつ高精度なレーザーマーキングやレーザーアブレーションを可能とします。この加工技術は、ナノ秒レーザーのような熱効果に依存しません。そのため、熱による溶融、変形、変色による加工物の劣化がありません。従来のレーザーでは不可能であった様々な用途において使用することができます。(506文字）
仕様
| モデル | CEPHEUS 1012 | CEPHEUS 1016 | CEPHEUS 1016 SHG |
|---|---|---|---|
| レーザータイプ | モードロック Nd:YVO4 | モードロック Nd:YVO4 | モードロック Nd:YVO4 |
| 最大平均出力 | 12 W | 16 W | 5 W |
| 最大パルスエネルギー | 250 μJ | 300 μJ | 125 μJ |
| 周波数範囲 | 20 kHz- 500 kHz (オプション– 6MHz) | 20 kHz- 500 kHz (オプション– 6MHz) | 20 kHz- 500 kHz (オプション– 6MHz) |
| ビーム品質*** | TEM00 (M2 < 1.5) | TEM00 (M2 < 1.5) | TEM00 (M2 < 1.5) |
| 冷却 | 空冷 | 空冷 | 空冷 |
| 寸法, L x W x H (mm) ; 重量 | |||
| レーザーヘッド | 617 x 325 x 338 mm; ca. 60 kg | 617 x 325 x 338 mm; ca. 60 kg | 617 x 325 x 338 mm; ca. 60 kg |
| レーザーコントロールユニット | 471 x 482 x 177 mm; 16,5 kg | 471 x 482 x 177 mm; 16,5 kg | 471 x 482 x 177 mm; 16,5 kg |
